Xử lý vải siêu chống thấm bằng công nghệ Plasma lạnh ở áp suất thấp

Tóm tắt

Các phương pháp sản xuất vải siêu chống thấm hiện nay có nhiều nhược điểm như tốn nhiều năng lượng, quy trình vận hành phức tạp, cồng kềnh, sử dụng nhiều hóa chất gây ô nhiễm môi trường. Trong nghiên cứu này mô hình xử lý-phủ nano trên vải bằng công nghệ Plasma được thiết kế và chế tạo nhằm khắc phục những nhược điểm trên. Ưu điểm của mô hình là sử dụng trực tiếp tia Plasma ở áp suất thường để tạo ra liên kết giữa các hạt nano và vải nên giảm được thời gian xử lý, không gây ô nhiễm. Qua kết quả thí nghiệm cho thấy hiệu suất phủ nano phụ thuộc vào vật liệu vải, năng lượng điện được cung cấp và thời gian xử lý. Mô hình trên sử dụng mức năng lượng 110V, 1A với tốc độ 1,5 m/ph để tạo ra thành công hiệu ứng siêu chống thấm trên vải thun cotton